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預(yù)先稱(chēng)取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的單質(zhì)硅粉，置于鎳盤(pán)中，使硅和碳化硅充分接觸后，將鎳盤(pán)放入蒙乃爾合金反應(yīng)管中，向反應(yīng)管內(nèi)通入氟氣，氟氣先和單質(zhì)硅反應(yīng)。含鎂大于2%的合金不能用。在高溫，一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長(zhǎng)的次序由小到大地排列則如下：因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。反應(yīng)放熱后，氟開(kāi)始和碳化硅進(jìn)行反應(yīng)，通入等體積的干燥氮?dú)庖韵♂尫鷼猓狗磻?yīng)繼續(xù)進(jìn)行，四氟化碳?xì)怏w價(jià)格，生成氣體通過(guò)液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝，然后慢慢地氣化。

四氟化碳的密度比較高，可以填滿地面空間范圍，在不通風(fēng)的地方會(huì)導(dǎo)致窒息。四氟化碳成品應(yīng)存放在陰涼，干燥，通風(fēng)的庫(kù)房?jī)?nèi)，嚴(yán)禁曝曬，武漢四氟化碳，遠(yuǎn)離熱源。四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來(lái)源，用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結(jié)合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。

因?yàn)樗姆己退姆缍际枪矁r(jià)化合物，然而碳氟鍵的鍵能遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于硅氟鍵的鍵能，鍵長(zhǎng)也是前者短得多，所以四氟化碳的熱穩(wěn)定性更好。相對(duì)分子量88.00。在常溫下，四氟化碳是無(wú)色、無(wú)臭、不燃的易壓縮性氣體，揮發(fā)性較高，是穩(wěn)定的有機(jī)化合物之一，高純四氟化碳，不易溶于水。四氟化碳亦稱(chēng)全氟化碳、四氟甲1烷、全氟化碳，為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用。

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