四氟化碳物理性質(zhì) :
熔點-183.6℃,
分子式是CF4,
沸點-128.1℃,
液體密度(-130℃)1.613g/cm3,
液體折光率(-173℃)1.515,
固體轉(zhuǎn)變點72.2K,
臨界溫度-45.67℃,
臨界壓力3.73MPa,
蒸氣壓(-150.7℃)13.33kPa
介電常數(shù)(25℃,0.5MPa)1.0006
臨界密度:7.1dm3/mol
標(biāo)準(zhǔn)摩爾自由能:-929.84 kJ/mol
標(biāo)準(zhǔn)摩爾生成自由能:-887.41 kJ/mol
危險性類別:第2.2類不燃?xì)怏w





四氟化碳有時會用作低溫冷卻劑。它可用于電路板的制造,以及制造絕緣物質(zhì)和半導(dǎo)體。它是用作氣體蝕刻劑及等離子體蝕刻版。四氯1化碳與氟化1氫的反應(yīng)在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行,反應(yīng)后的氣體經(jīng)水洗、堿洗除去酸性氣體,再通過冷凍,用硅膠除去氣體中的水分經(jīng)精餾而得成品。含鎂大于2%的合金不能用。在高溫,一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長的次序由小到大地排列則如下:因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。
高純四氟化碳是純度在99.999%以上的四氟化碳產(chǎn)品,是一種無色無味氣體。高純四氟化碳不可燃燒,在常溫常壓條件下化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,在密閉容器中遇高熱有危險,不溶于水,可溶于苯、等部分溶劑。四氟化碳是當(dāng)前微電子工業(yè)中應(yīng)用量高的等離子體蝕刻氣體,被廣泛應(yīng)用在硅、氮化硅、磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻。除此之外,四氟化碳還能在電子電器表面清洗、激光、低溫制冷、太陽能電池等領(lǐng)域有著應(yīng)用。由碳與氟反應(yīng),或與氟反應(yīng),或碳化硅與氟反應(yīng),或氟石與石油焦在電爐里反應(yīng),都能生成四氟化碳。

您好,歡迎蒞臨安徽譜純,歡迎咨詢...
![]() 觸屏版二維碼 |