四氟化碳的密度比較高,可以填滿地面空間范圍,在不通風的地方會導致窒息。四氟化碳成品應(yīng)存放在陰涼,干燥,通風的庫房內(nèi),嚴禁曝曬,遠離熱源。四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來源,用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結(jié)合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。





由碳與氟反應(yīng),或與氟反應(yīng),或碳化硅與氟反應(yīng),或氟石與石油焦在電爐里反應(yīng),都能生成四氟化碳。儲存注意事項:儲存于陰涼、通風的不燃氣體庫房。遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應(yīng)與易(可)燃物、氧化劑分開存放,切忌混儲。儲區(qū)應(yīng)備有泄漏應(yīng)急處理設(shè)備。在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行,反應(yīng)后的氣體經(jīng)水洗、堿洗除去酸性氣體,再通過冷凍,用硅膠除去氣體中的水分,經(jīng)精餾而得成品。

高純四氟化碳是純度在99.999%以上的四氟化碳產(chǎn)品,是一種無色無味氣體。高純四氟化碳不可燃燒,在常溫常壓條件下化學性質(zhì)穩(wěn)定,在密閉容器中遇高熱有危險,不溶于水,可溶于苯、等部分溶劑。常溫常壓下穩(wěn)定,避免強氧化劑、可燃物。不燃氣體,遇高熱后容器內(nèi)壓增大,有開裂、炸危險。化學性質(zhì)穩(wěn)定,不燃。常溫下只有液氨-試劑能發(fā)生作用。高純四氟化碳在常溫常壓條件下化學性質(zhì)穩(wěn)定,高純四氟化碳是一種高純電子氣體,在電子產(chǎn)業(yè)中需求量大。

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