石家莊激光氣體-激光氣廠家-安徽譜純|貨源充足(多圖)：

激光混合氣中的發(fā)生氣體是激光發(fā)生器上用來產(chǎn)生激光的氣體，對氣體質量要求高，激光混合氣配制精度要求高，高純二氧化碳純度達99.999%，高純氮氣的純度99.999%，高純氦氣的純度要求99.999%，二氧化碳是產(chǎn)生激光的，氦氣是冷卻激光器的，氮氣是平衡氣體，氣體中的水分、氧份、有機氣體雜質對激光機的鏡片損傷特別大，能快速減少鏡片的壽命。所以激光機對這些氣體的質量要求特別高。分子氣體：二氧化碳激光和氮氣激光是常見的分子氣體激光，其主要激光光分屬紅外線(10,640 nm)及紫外線(337 nm)。生物組織中的水分會吸收它的10,640 nm激光光，所以能用于手術，所需激光光功率約為50W。此外，非金屬材料的加工、金屬表面的熱處理、光譜學及光化學研討、環(huán)境遙測、測距、激起其他激光、發(fā)生離子體(俗稱電漿；Plasma)等，也都可用二氧化碳激光來進行。稀有氣體離子激光中，以氬離子激光及氪離子激光為常見。除了直接使用之外，氬離子激光常以其紫外線及藍綠光激起染料激光。

分子氣體：二氧化碳激光和氮氣激光是常見的分子氣體激光，其主要激光光分屬紅外線(10,640 nm)及紫外線(337 nm)。生物組織中的水分會吸收它的10,640 nm激光光，所以能用于手術，所需激光光功率約為50W。此外，非金屬材料的加工、金屬表面的熱處理、光譜學及光化學研討、環(huán)境遙測、測距、激起其他激光、發(fā)生離子體(俗稱電漿；Plasma)等，也都可用二氧化碳激光來進行。重要的準分子激光，以稀有氣體的鹵化物為自動介質，如ArF, KrF, XeF, KrCl, XeCl等。因為受激態(tài)常以星號(*)上標表示，所以有些數(shù)據(jù)上寫成ArF*等。準分子不會天然出現(xiàn)，而是在氣體混合物中放電時形成的。激光混合氣中組分氣的純度直接影響激光的性能，特別是氣體中氧、水、碳氫化合物等雜質的存在將導致激光輸出功率在鏡(面)和電極上的耗損，還會引起激光發(fā)射的不穩(wěn)定。

激光切割領域較長使用的二氧化碳激光混合氣體，這里二氧化碳就是產(chǎn)生激光作用的主導氣體。二氧化碳激光混合氣體目前存在切割線粗，毛邊多，并且切割鋼板的厚度很有限，一般都在10mm左右。中性原子激光與離子氣體激光的差別，在于前者的激光光來自中性原子能階之間的躍遷，后者是離子的能階( 如Ar+,Kr+ )間之躍遷。因此，氬激光(Argon laser)與氬離子激光(Argon ion laser)并不相同，前者的激光光波長屬于紅外線波段，后者則在可見光和紫外線區(qū)。一方面氬激光很少見，另一方面為了便于稱號，人們常將氬離子激光簡稱為氬激光。不光中文敘說如此，英文文獻亦見此用法，所以在不致混雜的時候，仍可用氬激光稱號氬離子激光。

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