深度提純難度大,而純度是電子氣體質(zhì)量重要的指標(biāo)。在芯片加工過(guò)程中,微小的氣體純凈度差異將導(dǎo)致整個(gè)產(chǎn)品性能的降低甚至報(bào)廢。電子氣體純度往往要求5N-6N級(jí)別,還要將金屬元素凈化到10-9級(jí)至10-12級(jí)。氣體純度每提高一個(gè)層次對(duì)純化技術(shù)就提出了更高的要求,技術(shù)難度也將顯著上升。以硅1烷為例,將其純度由4N提純到6N中間有漫長(zhǎng)的道路。對(duì)于混合氣體而言,混合配比的精度也是下游生產(chǎn)廠商關(guān)心的指標(biāo)。氣體純化技術(shù)主要有吸附法、精餾法、膜分離法等。

電子氣體行業(yè)的主要技術(shù)壁壘包括:
(1)提純技術(shù)難度大。電子氣體純度往往要求(5N-6N)級(jí)別,而金屬離子要求10-9~10-12級(jí)。 氣體純化技術(shù)主要有吸附法、精餾法、膜分離法,其中精餾法應(yīng)用為廣泛。精餾法可分為連續(xù)精餾法和間歇精餾法,連續(xù)精餾法操作穩(wěn)定,北京特種氣體,并且得到的氣體產(chǎn)品純度較高,質(zhì)量好。吸附法分為變壓吸附法和變溫吸附法,特種氣體銷(xiāo)售,與變壓吸附法相比,變溫吸附法能耗較高、吸附量小,供應(yīng)特種氣體廠家,再生需要加熱介質(zhì),吸附劑壽命較短。膜分離法為一種新型的高分離、濃縮提純及凈化技術(shù)。
(2)氣體輸送,充裝,和儲(chǔ)運(yùn)。超高純電子氣體的生產(chǎn)和使用需要高質(zhì)量的鋼瓶等儲(chǔ)運(yùn)容器,對(duì)氣體輸送管線、閥門(mén)和接口要求十分嚴(yán)格,以避免二次污染。隨著氣體純度的提高、產(chǎn)品種類(lèi)的增多,生產(chǎn)特種氣體公司,對(duì)包裝容器的要求也越來(lái)越高,
(3)分析檢測(cè)與質(zhì)量控制。超高純電子氣需要對(duì)ppm(10-6)至ppb(10-9)級(jí)別的雜質(zhì)進(jìn)行分析,金屬離子更是要求檢測(cè)線達(dá)到ppb(10-9)至ppt(10-12)。

特種氣體是光電子、微電子等領(lǐng)域。特別是超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池、半導(dǎo)體發(fā)光器件和半導(dǎo)體材料制造過(guò)程不可缺少的基礎(chǔ)性支撐源材料。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質(zhì)量、集成度、特定技術(shù)指標(biāo)和成品率,并從根本上制約著電路和器件的精1確性和準(zhǔn)確性。半導(dǎo)體工業(yè)用氣體品種多、質(zhì)量要求高、用量少,大部分是有毒或腐蝕性氣體。品種高達(dá)百余種。

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