




電子氣體行業(yè)的主要技術壁壘包括:
(1)提純技術難度大。電子氣體純度往往要求(5N-6N)級別,而金屬離子要求10-9~10-12級。 氣體純化技術主要有吸附法、精餾法、膜分離法,其中精餾法應用為廣泛。精餾法可分為連續(xù)精餾法和間歇精餾法,連續(xù)精餾法操作穩(wěn)定,并且得到的氣體產品純度較高,質量好。吸附法分為變壓吸附法和變溫吸附法,與變壓吸附法相比,變溫吸附法能耗較高、吸附量小,再生需要加熱介質,氣體公司,吸附劑壽命較短。膜分離法為一種新型的高分離、濃縮提純及凈化技術。
(2)氣體輸送,充裝,和儲運。超高純電子氣體的生產和使用需要高質量的鋼瓶等儲運容器,對氣體輸送管線、閥門和接口要求十分嚴格,以避免二次污染。隨著氣體純度的提高、產品種類的增多,哪里供應氣體,對包裝容器的要求也越來越高,
(3)分析檢測與質量控制。超高純電子氣需要對ppm(10-6)至ppb(10-9)級別的雜質進行分析,金屬離子更是要求檢測線達到ppb(10-9)至ppt(10-12)。

市場的表現是行業(yè)發(fā)展利好形勢的有力證明。近期,業(yè)內企業(yè)、地方政府在電子特種氣體行業(yè)“大展拳腳”。凱美特氣擬3.1億元成立子公司,布局電子特種氣體領域;重慶產特種氣體首1次出口蘇丹,助力“一帶一路”建設;大理建滇西1大特種氣體供應項目。這些都為電子特種氣體行業(yè)的開拓孕育了新的發(fā)展契機。
根據有關數據顯示,中國特種功能電子氣體市場規(guī)模逐年增長,氣體供應,僅2016年,中國特種電子氣體市場規(guī)模約為98億元左右。值得關注的是,從產業(yè)鏈以及技術層面歐美國家占據絕1對的領1先地位。可喜的是,溫州氣體,隨著新技術、新成果不斷涌現,將加速我國電子特種氣體產業(yè)的蓬勃發(fā)展,我國的特種氣體產業(yè)需求有望持續(xù)增長。

特種氣體在蝕刻中的應用
蝕刻是采用化學和物理方法,有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程。刻蝕的目的是在涂膠的硅片上正確地復1制掩膜圖形。刻蝕分為濕法蝕刻和干法蝕刻。濕法蝕刻是利用液態(tài)化學試劑或溶液通過化學反應進行蝕刻。干法蝕刻利用低壓放電產生的等離子體中的離子或游離基與材料發(fā)生化學反應,或通過轟擊等物理作用而達到蝕刻的目的。其主要介質是氣體。干法蝕刻的優(yōu)點是各向異性(即垂直方向蝕刻速率遠大于橫向速率)明顯、特征尺寸控制良好、化學品使用和處理費用低、蝕刻速率高、均勻性好、良率高等。常用的干法刻蝕是等離子體蝕刻。
硅片的蝕刻氣體(特種氣體)主要是氟基氣體,包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙1烷/氧氣、三氟化氮等。但由于其各向同性,選擇性較差,因此改進后的蝕刻氣體通常包括氯基(Cl2)和xiu基(Br2、HBr)氣體。反應后的生成物包括四氟化1硅、四氯硅1烷和SiBr4。鋁和金屬復合層的蝕刻通常采用氯基氣體,如CCl4、Cl2、BCl3等。產物主要包括AlCl3等

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